2018-12-04
北京佳诺贝科技与大连海事大学达成了离子源的合作意向，本次合作研发的离子源主要技术指标是：
1、引出径采用单孔，多孔两种形式；
2、束斑尺寸在2-20mm之间，根据引出孔可变；
3、离子能量范围2-30keV可调；
4、束流可达0.07-3mA;
5、束流密度1-10mA/cm2以上；
6、发生离子束气体：Ar、Kr、Xe等。
离子源（英文名称：Ion source）是使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置。它是各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的不可缺少的部件。
气体放电、电子束对气体原子(或分子)的碰撞，带电粒子束使工作物质溅射以及表面电离过程都能产生离子，并被引出成束。根据不同的使用条件和用途，目前已研制出多种类型的离子源。使用较广泛的有弧放电离子源、PIG离子源、双等离子体离子源和双彭源，这些源都是以气体放电过程为基础的,常被笼统地称为弧源；高频离子源则是由气体中的高频放电来产生离子的，也有广泛的用途；新型重离子源的出现，使重离子的电荷态显著提高,其中较成熟的有电子回旋共振离子源(ECR)和电子束离子源(EBIS)；负离子源性能较好的有转荷型和溅射型两种。在一定条件下，基于气体放电过程的各种离子源，都能提供一定的负离子束流。
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